DNP logra una resolución de patrón de línea de 10 nanómetros en plantilla de nanoimpresión para semiconductores de última generación

– Admite semiconductores de una generación de 1,4 nanómetros, además de reducir los costes de fabricación y el consumo de energía –

«El comunicado en el idioma original es la versión oficial y autorizada del mismo. Esta traducción es solamente un medio de ayuda y deberá ser comparada con el texto en idioma original, que es la única versión del texto que tendrá validez legal».
– Business Wire

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